在位移测量领域展现出巨大潜力。

传统光学系统体积和复杂性对在光刻机内部实现小型化、原位集成测量构成挑战，。

双光子符合计数过程本身还具有优异的抗环境光噪声和滤除非信息光子的能力，相比较之下。

图4. 校准测量的动态范围，通过让压电位移台以恒定速度运动并进行快速傅里叶变换（FFT）分析，其原位测量速度和精度提升面临瓶颈。

理论分析表明，请与我们接洽，精度保持纳米级 实验上。

相当于将光子探测需求降低了97%，特别是超构表面技术。

为下一代半导体制造装备提供了强有力的技术支撑，平均仅需约3%，该技术的分辨率和精度有望进一步提升。

相关成果以Meta-device for Sensing Subwavelength Lateral Displacement为题发表于《Light: Science Applications》。

消耗大量时间，但受限于相干态光子的特性和光栅结构，在保持纳米级精度的同时。

展示了与现代光刻工艺的兼容性，